高真空多靶磁控溅射镀膜机

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高真空多靶磁控溅射镀膜机

型号：JCP350

功能：JCP350高真空多靶磁控溅射镀膜机拥有直流和射频两种电源。直流磁控溅射适用于溅射导体靶材沉积镀膜，例如金属靶材，其特点是比较快；射频磁控溅射适用于溅射导体半导体以及绝缘体靶材镀膜，例如氧化物靶材。

地址：吉林省长春市营口路77号孵化器B座 130033 电话：0431-86708306 传真：0431-86708300 E-mail: wentingsun@ciomp.ac.cn